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负胶专门用于中厚金属电极的剥离工艺是适用于紫外曝光的中厚膜负性光刻胶，专为金属剥离工艺设计，显影后可……
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干湿蚀刻负胶是适用于紫外曝光的中薄层负性光刻胶，可实现膜厚图形化，具备高分辨率快感光快显影耐高温在电……
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蒸镀负胶它是金属剥离工艺的专用胶是适用于紫外曝光的薄层负性光刻胶，专为金属剥离工艺设计，显影后可形成……
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高精度负胶它专门用于超精细超薄高精度的半导体与微纳加工。是适用于紫外曝光的超高分辨率超薄层负性光刻胶……
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干法刻蚀负胶它是低能量曝光厚膜高温干法刻蚀场景的专用胶。是适用于多波长紫外曝光的中厚膜负性光刻胶，可……
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干法刻蚀负胶它中厚膜高温工艺干法刻蚀高精度垂直侧壁的场景。是适用于紫外曝光的中厚膜负性光刻胶，可实现……
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干法刻蚀负胶适合中等膜厚需要高温干法刻蚀高精度侧壁的工艺。是适用于紫外曝光的中薄层负性光刻胶，可实现……
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精细图形干法刻蚀负胶专门用于薄层精细图形高温工艺干法刻蚀场景。是适用于紫外曝光的薄层负性光刻胶，可实……
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干法刻蚀专用厚胶它是高温半导体工艺高深宽比干法刻蚀的专用厚胶。是适用于紫外曝光的厚膜负性光刻胶，可实……
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厚膜负性光刻胶许总是适用于紫外曝光的厚膜负性光刻胶，可实现厚胶图形化，具备高分辨率高感光度优异的耐高……
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厚膜型负性光刻胶许总是推出的厚膜型负性光刻胶，适配紫外曝光设备，具备高分辨率高感光度显影快电镀附着力……
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